甲硅烷

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甲硅烷
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IUPAC名 silicane
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别名
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四氢化硅 氢化硅 硅烷
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识别
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CAS号
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7803-62-5 
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PubChem
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23953
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ChemSpider
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22393
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SMILES
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InChI
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InChIKey
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BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYAE
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Gmelin
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273
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UN编号
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2203
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ChEBI
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29389
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RTECS
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VV1400000
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性质
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化学式
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SiH4
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摩尔质量
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32.12 g mol−1 g·mol⁻¹
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外观
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无色气体
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密度
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? kg m−3(固态) 0.7 g/ml(液态) 1.342 g L−1(气态)
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熔点
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88 K (−185°C)
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沸点
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161 K (−112°C)
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溶解性(水)
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水解
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结构
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分子构型
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正四面体
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偶极矩
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0 D
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热力学
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ΔfHmo298K
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-1615 kJ mol−1
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So298K
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283 J mol−1 K−1
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危险性
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主要危害
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毒性较低,避免暴露。可能造成红肿和发炎。极易燃烧。
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NFPA 704
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闪点
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N/A
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自燃温度
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294 K (21°C)
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相关物质
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相关氢化物
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甲烷、甲锗烷
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若非注明,所有数据均出自一般条件(25 ℃,100 kPa)下。
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甲硅烷(英语:Silane),也稱甲矽烷、矽甲烷,化学式为SiH4,是一种硅烷;有时也被简称为硅烷(勿混淆)。它的结构与甲烷类似,只是用硅取代了甲烷中的碳。在室温下,硅烷是一种易燃的气体,在空气中,无需外加火源,硅烷就可以自燃。但是有学者认为,硅烷本身是很稳定的,在自然状态下,是以聚合物的状态存在的。在超过420摄氏度的环境下,硅烷会分解成硅和氢,因此硅烷可以被用来以薄膜沉積提纯硅,是半導體工業重要的特用電子級氣體之一[1]。
制备
工業上,多晶塊狀硅首先在摄氏200度置於流床反應器下鹽酸化:硅與通入的鹽酸氣形成三氯化硅和氫氣。反應式如下:
- Si + 3 HCl → HSiCl3 + H2
將經過蒸餾純化的三氯化硅置於有催化劑的resinous bed反應器而產生歧化反應,形成硅烷和四氯化硅。反應式如下:
- 4 HSiCl3 → SiH4 + 3 SiCl4
此反應的催化劑常以金屬鹵化物爲主,尤其是氯化鋁。
安全
矽烷在空氣中爆炸性極高,尤其與氮氣等氣體混在一起爆炸性更高,只要1%的矽烷和純氮就有可能引發爆炸[來源請求]。另外矽烷對眼睛具有刺激性。
參見
參考資料
- organofunctional silanes from Degussa AG
- organofunctional silanes for building protection - water repellents - masonry protection - Graffiti Controll - sealer - easy to clean surface from Degussa AG
http://www.siridion.com chlorosilanes for telecommunication and electronic materials from Degussa
- 以硅烷化合物製備多晶矽原料
硅化合物
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Si(II) |
SiO |
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Si(IV) |
- SiF4
- SiCl4
- SiBr4
- SiI4
- SiH4
- SiC
- SiO2
- SiS2
- Si3N4
- H2SiO3
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|
^ 台灣特品化學公司
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